　　氮化鋁(AlN)陶瓷具有優異的綜合性能，是近年來受到廣泛關注的新一代先進陶瓷，在多方面都有廣泛的應用前景。非常適用于半導體基片和結構封裝材料。在電子工業中的應用潛力非常巨大。另外氮化鋁還耐高溫，耐腐蝕，不為多種熔融金屬和融鹽所浸潤。因此，可用作高級耐火材料和坩堝材料也可用作防腐蝕涂層，如腐蝕性物質的容器和處理器的里襯等，粉末還可作為添加劑加入各種金屬或非金屬中來改善這些材料的性能，高純度的氮化鋁陶瓷呈透明狀，可用作電子光學器件，還具有優良的耐磨耗性能，可用作研磨材料和耐磨損零件。

　　由于具有優良的熱、電、力學性能，氮化鋁陶瓷引起了國內外研究者的廣泛關注。隨著現代科學技術的飛速發展，對所用材料的性能提出了更高的要求。氮化鋁陶瓷也必將在許多領域得到更為廣泛的應用。

　　產品主要技術指標

純度	%	＞99
密度	g/cm³	＞3.1
熱導率	w/(m*k)	＞120
熱膨脹系數	10-6K	4.4
最高使用溫度	℃	1800
抗彎強度	Mpa	＞300
體積電阻率	Ω*cm	1014
介電強度	kV/mm	15

　　產品特點及優勢

　　●熱導率高

　　●膨脹系數可與半導體硅片相匹配

　　●具有高的絕緣電阻和耐電壓強度

　　●介電常數低，介質耗損小

　　●機械強度高

　　●適用于流延成型工藝

　　典型市場應用

　　●應用于化合物半導體單晶生長用坩堝

　　●高頻聲表面波器件用基片

　　●高純氮化鋁薄膜的射靶

　　●紅外線和微波的窗口材料

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